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英特爾爭先台積電下訂業界首部新世代 EUV,強化與 ASML 技巧協作 05月17日更新_5f 成人

為推進尖端半導體微影技巧進展,微影技巧與暴光機年夜廠艾司摩爾 (ASML) 與處置器龍頭英特爾于台北時候 19 日晚間公佈久遠協作的最新進展,為兩邊久遠高數值孔徑協作案的框架內容,英特爾已向 ASML 下訂業界首部 TWINSCAN EXE:5200 體系訂單。這款具有 High-NA 極紫熟女 nude外光(EUV)大批臨盆體系,每小時有 200 片以上晶圓產能。

ASML 技巧長 Martin van den Brink 透露表現,英特爾的遠見和對 ASML High-NA EUV 的初期許諾,為賡續尋求摩爾定律的盡佳左證。相較現在 EUV 體系,我們延續立異拓展 EUV 線路圖,進一步下降復雜性、本錢、周期時候和能量,供應驅動芯片家當下個 10 年的優越經濟範圍延展性。
英特爾客歲 7 月 Accelarated 運動公佈,安排首款 High-NA 技巧規劃,建立晶體管立異線路圖進展。英特爾早在 2018 年等於之前 TWINSCAN EXE:5000 體系首位買家,透過昔日公佈的新訂購案,協作關系將隨英特爾 2025 年開端以高數值孔徑 EUV 臨盆制造連續。
英特爾實行副總裁暨技亞 里沙 寫真巧開闢奇蹟部總司理 Ann Kelleher 也指出,“英特爾的重點就是堅持半導體微影技巧的搶先位置,2021年英特爾延續打造 EU爆乳女V 專業學問和本領。透過與 ASML 緊密協作,英特爾將吸取 High-NA EUV 高階烏龍派出所做愛析度圖案化上風,為連續摩爾定律方法之一,并將尋找晶體管微縮的精良傳統連續下往。”
ASML 最新 EXE 平台為 EUV 技巧的演變步調,含新鮮光學計劃與年夜幅提拔速率的光罩與晶圓階段。TWINSCAN EXE:5000 和 EXE:5200 體系與之前 EUV 機械的 0.33 數值孔徑鏡片比擬,供應切確度提八木 奈々拔的 0.55 數值孔徑,為更小晶體管特征供應更高的分辯率圖案化。體系數值孔徑聯合應用波長,決議最小能印制的特征尺寸。
EUV 0.55 NA 為 2025 年開端的多個將來節點計劃,同時也是業界初次安排技巧,隨之而來的將是具有鄰近密度的內存技巧。2021 年投資者關系日,ASML 分享 EUV 藍圖計劃,并透露表現 High-NA 技巧無望自 2025 開端增援臨盆制造,是以以後的聲明與藍圖計劃同等。
(首圖起源:英特爾)

2022-01-20 13:58:00